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应该储存在密封的塑料瓶里。

在水中溶解HF(***)。用来雕刻玻璃，清洗铸件上的残砂，控制发酵，电抛光，清洗腐蚀半导体硅片(与HNO3混酸)。由于氢原子与氟原子之间的结合能力较强，使***无法在水中完全电离。

***可以溶解许多其他酸不能溶解的玻璃(主要成分:二氧化硅)。产生气体的反应方程如下:

SiO2(s)+4HF(aq)=SiF4(g)↑+2H2O(l)

产生的SiF4可以继续和过量的HF产生***:

SiF4(g)+2HF(aq)=H2[SiF6](aq)，***是二元强酸。

正因为如此，它必须储存在塑料(理论上，放在聚四氟乙烯制成的容器中)、蜡或铅制成的容器中。***没有还原性。如果你想长期储存，你不仅需要一个密封容器，还需要尽可能排出容器中的空气。

(可以腐蚀玻璃)与硅和硅化合物反应产生气态，但不会腐蚀塑料，石蜡，铅，金，铂。可以和水和乙醇混合使用。市场上销售的***溶质分数为40%，相当于22.5毫升/升。***的35.35%是共沸混合物。它的物理特性是液态温度范围宽，极性大，沸点、凝固点、粘度及表面张力低，化学特性是碳氟链牢固且具有活泼的化学活性，几乎能与所有各种有机的或无机的化合物结合。毒性致死量为25毫克/公斤。具有腐蚀性，强烈腐蚀金属、玻璃和含硅物体。例如，吸入蒸汽或接触皮肤会导致更难愈合的溃疡。

工业用氟加热至500℃进行热分解，或用萤石(氟化钙CaF2)和加热至700℃制备***。

硫酸法将干燥的萤石粉与硫酸按比例1:(1.2~1.3)混合，送入旋转反应炉进行反应，炉内气相温度控制在280℃±10℃。反应性气体进入粗馏塔，除去大部分硫酸、水分和萤石粉，塔的温度控制在100~110℃，塔的顶部温度控制在35~40℃。***广泛用于雕刻玻璃、清洗铸件上的残砂、控制发酵、电抛光、清洗腐蚀半导体硅片(与HNO,的混酸)、建筑物外墙清洗等。粗***气体通过脱气塔凝结成液体，塔的温度控制在20~23℃，塔的顶部温度控制在-8℃±1℃，然后进入精馏塔进行精馏，塔的顶部温度控制在30~40℃，塔的顶部温度控制在19.6℃±0.5℃。

精制后的***用水被吸收，即得到氢氟产品。

这种收集到的***通常含有水、硅和硫化合物。此后，***可通过蒸馏等方法进行净化。

盐酸和萤石(主要成分是氟化钙CaF2)也可以反应制备:CaF2+2HCl=CaCl2+2HF。工业级***工业级***，冷凝分离去除杂质，通过微孔滤膜过滤去除灰尘颗粒，制成无色透明的电子级***。氟和氢混合后立即，产生***。露天电气设备、架空线路经长期的风吹日晒和酸性气体侵蚀，导致绝缘失效。F2(g)+H2(g)=2HF(g)事实上，***在水溶液中有两种平衡:HF=H+F-K1=7.2×10-4。HF+F-=HF2-K2=5.2。

随着浓度的增加(超过5毫升)，HF已经是相当强的酸了。

***溶解氧化物的能力在铝和铀的纯化中起着重要作用。***也用于蚀刻玻璃，可以雕刻图案，标记刻度和文字的半导体工业用于去除硅表面的氧化物，在炼油厂用于异丁烷和正丁烯化反应的催化剂，在去除不锈钢表面的氧杂质的浸泡过程中也用于***。若生产、贮存的***数量超过规定的临界量，将构成有毒物质重大危险源。***也用于许多含氟有机物的合成，如Teflon(聚四氟乙烯)和氟利昂等制冷剂。

***和熔化***可用于去除微丝表面的玻璃涂层，室温下去除厚度为10μm的玻璃涂层的时间约为150s，熔化***约为10s的玻璃成分和结构是影响玻璃涂层纯铜微丝耐腐蚀性能的重要因素。

采用熔融纺丝法制备了玻璃涂层纯铜微丝，对微丝表面玻璃涂层的去除进行了实验研究，评价了微丝在***和熔融***中的腐蚀行为，分析了玻璃涂层纯铜微丝在强酸和强碱中的耐腐蚀性，探讨了其腐蚀机理。

对皮肤有很强的刺激性和腐蚀性。***中的氢离子对人体组织有脱水和腐蚀作用，氟是活跃的非金属元素之一。接触***后，氟离子不断分离并渗透到深层组织中，溶解细胞膜，导致表皮、真皮、皮下组织甚至皮层液化坏死。