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应该储存在密封的塑料瓶里。

在水中溶解HF(***)。用来雕刻玻璃，清洗铸件上的残砂，控制发酵，电抛光，清洗腐蚀半导体硅片(与HNO3混酸)。由于氢原子与氟原子之间的结合能力较强，使***无法在水中完全电离。

***可以溶解许多其他酸不能溶解的玻璃(主要成分:二氧化硅)。产生气体的反应方程如下:

SiO2(s)+4HF(aq)=SiF4(g)↑+2H2O(l)

产生的SiF4可以继续和过量的HF产生***:

SiF4(g)+2HF(aq)=H2[SiF6](aq)，***是二元强酸。

正因为如此，它必须储存在塑料(理论上，放在聚四氟乙烯制成的容器中)、蜡或铅制成的容器中。***没有还原性。如果你想长期储存，你不仅需要一个密封容器，还需要尽可能排出容器中的空气。

(可以腐蚀玻璃)与硅和硅化合物反应产生气态，但不会腐蚀塑料，石蜡，铅，金，铂。如果不进行处理，***终可能导致心、gan、shen和神经系统的严重甚至是致命损伤。可以和水和乙醇混合使用。市场上销售的***溶质分数为40%，相当于22.5毫升/升。***的35.35%是共沸混合物。毒性致死量为25毫克/公斤。具有腐蚀性，强烈腐蚀金属、玻璃和含硅物体。例如，吸入蒸汽或接触皮肤会导致更难愈合的溃疡。

工业用氟加热至500℃进行热分解，或用萤石(氟化钙CaF2)和加热至700℃制备***。

硫酸法将干燥的萤石粉与硫酸按比例1:(1.2~1.3)混合，送入旋转反应炉进行反应，炉内气相温度控制在280℃±10℃。但是你会发现高浓度的HF竟有十分强的酸性，这是因为高浓度的HF存在氢键缔合可产生(HF)2（较多）,(HF)3较少，而H2F2(就是(HF)2)是强酸存在电离：H2F2==H++HF2-,H3F3是更强的酸但是有存在很少所以就不讨论了。反应性气体进入粗馏塔，除去大部分硫酸、水分和萤石粉，塔的温度控制在100~110℃，塔的顶部温度控制在35~40℃。粗***气体通过脱气塔凝结成液体，塔的温度控制在20~23℃，塔的顶部温度控制在-8℃±1℃，然后进入精馏塔进行精馏，塔的顶部温度控制在30~40℃，塔的顶部温度控制在19.6℃±0.5℃。

***就会使依赖上述两种离子起作用的失去作用。露天电气设备、架空线路经长期的风吹日晒和酸性气体侵蚀，导致绝缘失效。接触***可能不会引起疼痛，而症状可能会在***和骨骼中的钙发生反应几个小时后才会发生，可能对人体造成的伤害是不可小看的，其暴露途径包括皮肤及粘膜接触、呼吸道吸入及肠胃道摄入，如果皮肤接触到50%以上较高浓度的***，会立即引起疼痛、泛白、反应，1至2小时内产生水泡，6至24小时内坏死及溃烂，如果接触到10%以下较低浓度者，往往在6小时或更长时间才会出现疼痛等症状，因此常被当事人忽视，导致性伤害，无法更好地观察液位高度。严重时甚至会导致安全事故。因此，在制作测量***液位的磁性翻板液位计的面板时，必须选择亚克力作为磁性翻板液位计显示面板的窗户材料。

***中的氢离子对人体组织有脱水和腐蚀作用，氟是活跃的非金属元素之一。据业内企业透露，外资进入我国氟化工行业，采取投资合作、参股建设***生产装置等方式，间接控制萤石资源，产品则直接出口。皮肤接触***后，氟离子不断解离，渗入深层组织，溶解细胞膜，氟化物中的阴离子会与氢离子分离，由于氟离子半径，很容易穿透人体细胞膜，所以渗透速度极快，可迅速在体内造成损伤，并进入体内，造成全身伤害。

用沙土，干石灰或苏打灰混合。还可用大量的水冲洗，洗净后放入废水系统。

重大泄漏：筑起围堤或挖坑；用泵移至槽车或收集器中，或送至废物处理场进行处置。

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***质子的物质很少，在无水***中有许多酸性化合物，而无水***则呈碱性或。生产过程中无水***会以气体形式存在于作业环境的空气中，它有较高的毒性。立即用大量水进行长时间冲洗，尽快稀释并冲走***。它是的措施，的关键。总的原则是使用一些可溶性的钙镁盐类制剂，使它们与氟离子结合，形成不溶性的氟化钙或氟化镁，采用石灰水浸泡或湿敷，易于推广。

但比氟磺酸弱。腐蚀性强，严重损害牙齿和骨骼。硅化合物腐蚀性强。应该储存在密封的塑料瓶里。

在水中溶解HF(***)。用来雕刻玻璃，清洗铸件上的残砂，控制发酵，电抛光，清洗腐蚀半导体硅片(与HNO3混酸)。